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高精度光刻机
设备特点:

UV-LED光源

安全又环保 无需预热冷却
选用 UV-LED 光源不再需 要预热和冷却,因为 LED 仅 在曝光期间打开。这些因素 显着有助于相对较低的能源 消耗。LED 的使用寿命比传 统灯高出许多倍,从而降低 了更换灯泡所产生的成本。 停工、购买新灯、调整和处 理旧材料都已成为过去。使 用 LED 灯箱既安全又环保, 是健康和职业安全以及环境 保护方面的重要进步。

高精度自动套刻系统

性能提升 品质升级
作为全场曝光系统, CI-150A/CI-200A能够一 次曝光150mm/200mm 晶圆,此系统光均匀性已 超过95%,更能提升产 品品质。它更高的吞吐 量和更低的投资成本直 接转化为更低的拥有成 本,使其成为适用于各 种光刻工艺的最佳决方 案。

卓越的光均匀性

高精度 更精准
采用顶部对 准系统, 选用高 清相机及大视野 镜头, 纳米级对 位承载平台以及 低频隔振系统, 在将掩模定位在 晶圆上时可实现 低至 0.5 μm 的 对准精度 。
主要技术参数:
波长 :
光源 :
XX :
作业模式 :
照度能量 :
照度均匀性 :
曝光有效范围 :
曝光模式 :
曝光间隙 :
晶圆厚度 :
曝光分辨率(最小线宽) :
Theta轴移动精度 :
晶圆尺寸 :
光罩尺寸 :
分辨率 :
X轴运动行程 :
Y轴运动行程 :
放大倍率 :
视野范围(FOV) :
对准精度 :
卡匣传送方式 :
型式/Type :
对位精度 :
定位精度 :
圆片式(硅) :
I-Line 365
UV LED
DC电源模块
恒电流
50mw/cm²(I-Line)
≤5%
170mm*170mm/230mm*230mm
近接式
10um
0.8mm—1.4mm
1um(最小0.35um)
±0.001°
4、5、6、8
5、6、7、9
100nm
±50mm
±50mm
放大倍率
视野范围(FOV)
对准精度
可选择放置 A进A出或A进B出
6寸/8寸cassette/Open cassette
≤±0.5um
±0.1°
缺口/切边
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