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高精度光刻机
设备功能及特点：
CI- 150A/CI-200A系统是光刻工艺中高度可靠、准确和快速的叠加，是半导体制造行业高产量的关键。凭借其为满足特定工艺要求而设计的多种对准技术及其高度自动化，提供一流的对准精度以实现最佳生产结果。
前沿模式识别，最大限度减少操作员协助；
通过行业领先的光均匀性和高度精确的间隙控制实现出色的均匀性。
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